一，精細小的產品(pin)，采用(yong)傳統方式拋光，效率底，效果(guo)差，而且(qie)容易變(bian)(bian)形(xing)(xing)。采用(yong)等離(li)子電漿拋光機可以(yi)對1MM以(yi)上的產品(pin)進行拋光，而且(qie)采用(yong)專業制(zhi)具，不存(cun)在任何變(bian)(bian)形(xing)(xing)。日產量200K以(yi)上。

　　二，效果(guo)(guo)方面，傳統方法一(yi)般只能打磨工(gong)(gong)件的外表(biao)面，對(dui)工(gong)(gong)件里面尤(you)其(qi)是(shi)有凹進(jin)的地(di)方無(wu)能為力，而(er)等離(li)子(zi)電漿(jiang)拋光能使工(gong)(gong)件的所有面具(ju)有光澤(ze)，達(da)到(dao)鏡(jing)面效果(guo)(guo)、去(qu)毛(mao)刺、去(qu)披風(feng)，在(zai)邊緣處(chu)(chu)產生微小鈍角(jiao)。例(li)如手機和(he)一(yi)些高精密(mi)的電子(zi)產品都需要進(jin)行去(qu)毛(mao)刺、去(qu)披風(feng)處(chu)(chu)理。也逐(zhu)漸成為內(nei)部件表(biao)面處(chu)(chu)理的一(yi)種趨勢。

　　三，成本方(fang)面(mian)，由(you)于傳(chuan)統(tong)方(fang)法(fa)(fa)過來依賴人力(li)，在人力(li)資源越來越昂貴的(de)時代，等(deng)離(li)(li)子電漿(jiang)拋光機(ji)具(ju)有(you)不可比擬的(de)優(you)勢(shi)。 等(deng)離(li)(li)子電漿(jiang)拋光在一定(ding)程度上(shang)依賴于傳(chuan)統(tong)拋光，對(dui)于沖(chong)壓不是很(hen)好的(de)產(chan)(chan)品需(xu)要先進行(xing)傳(chuan)統(tong)方(fang)法(fa)(fa)上(shang)的(de)初磨，再進行(xing)等(deng)離(li)(li)子電漿(jiang)拋光能達到更好的(de)效(xiao)果。 如對(dui)于手(shou)機(ji)按(an)鍵(jian)之類的(de)小型產(chan)(chan)品我(wo)司的(de)生產(chan)(chan)方(fang)法(fa)(fa)具(ju)有(you)傳(chuan)統(tong)方(fang)法(fa)(fa)不可比擬的(de)優(you)勢(shi)，在效(xiao)率方(fang)面(mian)大大提(ti)高，成本方(fang)面(mian)降低很(hen)多。對(dui)于單個小的(de)手(shou)機(ji)按(an)鍵(jian)我(wo)公(gong)司日產(chan)(chan)量能達到 20萬(wan)片。

　　由(you)(you)于(yu)是對(dui)(dui)工件(jian)的(de)(de)(de)(de)各個(ge)面(mian)(mian)(mian)均(jun)勻(yun)的(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)，并且(qie)能對(dui)(dui)1MM以上的(de)(de)(de)(de)部(bu)件(jian)進行(xing)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)而(er)且(qie)不(bu)會(hui)影(ying)響(xiang)工件(jian)本身(shen)的(de)(de)(de)(de)大(da)小尺寸，高精度部(bu)件(jian)和(he)有特殊要求的(de)(de)(de)(de)工件(jian)，傳統的(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)方法無法完成(cheng)采用等(deng) 離子電(dian)(dian)漿(jiang)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)能達(da)到異想不(bu)到的(de)(de)(de)(de)效果。這方面(mian)(mian)(mian)具(ju)有不(bu)可比擬的(de)(de)(de)(de)優勢(shi)。手表行(xing)業目前應用比較廣泛，手機滑軌方面(mian)(mian)(mian),由(you)(you)于(yu)滑軌對(dui)(dui)光(guang)(guang)(guang)滑度要求很(hen)高,而(er)傳統的(de)(de)(de)(de)手工打(da)磨方式根本無法對(dui)(dui)凹槽內進行(xing)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang),而(er)且(qie)容易(yi)產(chan)(chan)(chan)生變形(xing),拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)不(bu)均(jun)勻(yun)等(deng)。但等(deng)離子電(dian)(dian)漿(jiang)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)能對(dui)(dui)所有面(mian)(mian)(mian)均(jun)勻(yun)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang),不(bu)會(hui)產(chan)(chan)(chan)生任(ren)何變形(xing),效果高日(ri)產(chan)(chan)(chan)量能達(da)到40K. 對(dui)(dui)于(yu)蝕刻(ke)后(hou)(hou)產(chan)(chan)(chan)品，尤其是深蝕后(hou)(hou)凹的(de)(de)(de)(de)部(bu)分(fen)會(hui)留(liu)(liu)下(xia)殘留(liu)(liu)物，出現黃印，暗(an)點(dian)(dian)。影(ying)響(xiang)整個(ge)外觀(guan)。經過等(deng)離子電(dian)(dian)漿(jiang)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)后(hou)(hou)里面(mian)(mian)(mian)的(de)(de)(de)(de)殘留(liu)(liu)物，暗(an)點(dian)(dian)都會(hui)去除，并且(qie)會(hui)更加光(guang)(guang)(guang)亮。對(dui)(dui)激光(guang)(guang)(guang)后(hou)(hou)產(chan)(chan)(chan)品增加亮度。 我(wo)(wo)公司專業生產(chan)(chan)(chan)等(deng)離子電(dian)(dian)漿(jiang)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)設備，該設備由(you)(you)機體、專用電(dian)(dian)源、和(he)控制系統組(zu)成(cheng)，其核心部(bu)分(fen)電(dian)(dian)源由(you)(you)我(wo)(wo)公司自主(zhu)設計(ji)生產(chan)(chan)(chan)。 如貴公司有合作(zuo)意愿，共(gong)謀發展，請聯系我(wo)(wo)們，我(wo)(wo)們將竭誠為您服務。

　　電漿拋光(EDTM)機的主要特點:
　　(1)根據工件尺寸的不同,可以使工件在幾十秒至2分鐘內達到近鏡面的拋光效果,使后續處理十分方便;
　　(2)在拋光過程中有效去除沖壓件或其它制造件的邊角毛刺;
　　(3)拋光過程中使工件表面產生一層鈍化膜,使其保持耐久光亮,增強拋光面的抗腐蝕性能;
　　(4)拋光均勻程度優越,整個工件表面甚至于所有死角部位都可達到一致的近鏡面效果;
　　(5)拋光過程由電參數控制,全過程采用進口PLC自動化控制,操作簡單,維護方便;
　　(6)生產效率高,生產成本低;
　　(7)拋光過程不產生化學污染【低濃度藥劑(95%~97%水+3%~5%的藥品,PH值約6.5~7)】.
　　(8)清潔(jie)能力:EDTM系(xi)統不但定位為(wei)快速(su)拋(pao)光(guang)機構(gou)之(zhi)外,同時亦適合作為(wei)各種形(xing)狀合金表面(mian)(mian)的去(qu)污(wu)、除脂、去(qu)氧化(hua)層(ceng)、清潔(jie)殘(can)留雜質及化(hua)學藥物,提供(gong)工件表面(mian)(mian)鍍膜前(qian)比較(jiao)優質的前(qian)置處理.

　　全自動等離子電漿拋光機的工作原理:
　　全自動等(deng)(deng)(deng)離子(zi)電(dian)(dian)漿拋光(guang)技術是(shi)基于(yu)等(deng)(deng)(deng)離子(zi)體的繞射(she)效果來實現(xian)拋光(guang)作用(yong)的.將電(dian)(dian)解質溶解于(yu)水里,通入直流電(dian)(dian)后,工件表面(mian)(mian)會出現(xian)穩定(ding)的蒸(zheng)氣氣體層(ceng),該(gai)氣體層(ceng)會把(ba)被(bei)處理表面(mian)(mian)與(yu)電(dian)(dian)解質水溶液(ye)隔開,從(cong)而導致表面(mian)(mian)與(yu)電(dian)(dian)解液(ye)蒸(zheng)氣之間產生強烈的等(deng)(deng)(deng)離子(zi)體化(hua)(hua)(hua)學和電(dian)(dian)化(hua)(hua)(hua)學反(fan)應,使被(bei)處理表面(mian)(mian)產生陰(yin)極(ji)(ji)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua).同(tong)時(shi)又(you)使陰(yin)極(ji)(ji)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)層(ceng)受到(dao)化(hua)(hua)(hua)學侵蝕,在氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)速度與(yu)侵蝕速度相(xiang)等(deng)(deng)(deng)時(shi)出現(xian)拋光(guang)效果,其表面(mian)(mian)為光(guang)潔度上升反(fan)射(she)率(lv)提(ti)高.當(dang)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)層(ceng)有點(dian)薄且又(you)足(zu)以抵御侵蝕作用(yong)時(shi),其反(fan)射(she)率(lv)出現(xian)比較高值.微觀不平(ping)處的氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)層(ceng)會薄,因此侵蝕總是(shi)發(fa)生在凸(tu)起部(bu)位(wei).

　　此外,被拋(pao)光(guang)表面被施加足夠高的(de)電壓(ya)后，即(ji)會(hui)與氣體(ti)層、蒸氣、電解液之間產生很高的(de)電場強度(du),強度(du)也在微(wei)觀不平(ping)處得(de)到強化.在這(zhe)些作用的(de)綜合效(xiao)果下(xia),被拋(pao)光(guang)物件表面微(wei)觀凸起部位被削(xue)平(ping),即(ji)達到拋(pao)光(guang)和去(qu)毛刺的(de)效(xiao)果.