機臺名稱：常壓等離子射流模組
機臺型號：Suncola-AP-40
模塊化設計，結構緊湊，便于安裝到流水線設備上
有極好的高速處理效果
處理白玻璃速度約60毫米/秒 (接觸角< 10 °)
常規處理只需要使用氧氣(氮氣、氬氣用于特殊處理制程)
較低的處理溫度，基片溫度< ~ 40 °C
丌存在熱損傷和熱氧化的問題
臭氧釋放量( < ~ 0.001 ppm)
緊湊的模塊化設計 ，可用于多種應用
等離子斑點直徑：30-60mm
較低的等離子處理溫度
基片溫度< ~ 40 °C
主要應用：PCB 清潔，ACF/COG，金屬帶的高分子聚合物涂覆，平板覆膜清潔。