機臺名稱：低溫等離子準輝光放電表面處理模組
機臺型號：PCF-6000A；
電源：AC220V（±10%）；
功率：5000VA（MAX）；
寬幅：200-500mm（可定制）；
重量：200kg；
設備尺寸：1724(W)×1046(H) ×1140(D)mm；
處理材料的高度：小于6mm。
使用溫度范圍：-10℃～+40℃（不結冰）；
相對濕度： <90%HR以下（不凝露）；
大氣壓力：1.013×105pa；
貯存(cun)環境溫度：－25℃~+55℃     相(xiang)對(dui)濕度：<90%（40℃）  &nbsp; 大氣(qi)壓力(li)：1.013×105pa

　　大氣壓下輝光(guang)放(fang)(fang)(fang)電(dian)(dian)的視覺特(te)征呈現(xian)均勻的霧狀放(fang)(fang)(fang)電(dian)(dian)，放(fang)(fang)(fang)電(dian)(dian)的電(dian)(dian)流(liu)電(dian)(dian)學(xue)特(te)征為(wei)單脈沖，放(fang)(fang)(fang)電(dian)(dian)溫度(du)為(wei)室溫。大氣壓輝光(guang)放(fang)(fang)(fang)電(dian)(dian)可以處理(li)(li)(li)各種高分子(zi)材(cai)料(liao)、生物材(cai)料(liao)、金(jin)屬材(cai)料(liao)、紡(fang)織品材(cai)料(liao)、異型材(cai)料(liao)。設備成本低、處理(li)(li)(li)的時間短、可加入各種氣氛，氣氛含量高、功率密(mi)度(du)大、處理(li)(li)(li)效率高。

　　可應用(yong)于表(biao)面聚合、表(biao)面接枝、金(jin)屬滲氮、冶(ye)金(jin)、表(biao)面催化、化學合成(cheng)及各(ge)種粉、粒(li)、片材(cai)料的(de)表(biao)面改(gai)性和的(de)表(biao)面處理。電(dian)子和離子的(de)能量可達10eV以上。材(cai)料批處理的(de)效率(lv)要高于低(di)氣壓輝光放電(dian)10倍以上。 主要應用(yong)于表(biao)面清洗、改(gai)善(shan)復合材(cai)料粘附性、細(xi)胞培(pei)養皿,組織培(pei)養皿的(de)親水、心臟冠狀動脈支架、生物傳感器的(de)表(biao)面處理。